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DHPS系列 直流溅 射等离子体实验装置

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DHPS系列 直流溅 射等离子体实验装置

详细介绍

装置采 用同轴二极溅射结构,靶台和靶距离可调节,溅射基 片可进行控温加热;溅射气压、溅射气源流量可调节,可研究不同气压、气源流 量对薄膜溅射的影响;反应腔 体采用石英玻璃管,可直观 地观察到溅射现象;工作气体可调节更换,并可多 路气体混合工作。可以完 成光学薄 膜材料的制备及其光学特性的测量、金属薄 膜的制备等实验。

  主要实验内容:

  ◆ 光学薄 膜材料的制备及其光学特性的测量;

  ◆ 金属薄膜的制备实验;

  ◆ 理解直流溅射原理,掌握直 流溅射薄膜材料的工艺方法。

  主要技术特点:

  ◆ 溅射靶 台和溅射靶距离可调节,研究在 不同距离时对薄膜溅射的影响;

  ◆ 溅射基片可进行加热,加热温度可控,研究基 片温度对薄膜溅射的影响;

  ◆ 溅射气压、溅射气源流量可调节,研究不同气压、气源流 量对薄膜溅射的影响;

  ◆ 反应腔 体采用石英玻璃管,可直观 地观察到溅射现象;

  ◆ 供电电源:AC 220V,50 Hz。

 


本文网址:http://www./product/685.html

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