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DHMS 系列 磁控溅射镀膜仪

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DHMS 系列 磁控溅射镀膜仪

详细介绍

可采用直流(DC)溅射,溅射金 属靶材制备金属膜,也可采用射频(RF)溅射,可溅射 金属和氧化物靶材,制备金属或氧化物膜。可制作 各种单层或多层薄膜,如铁电、导电,合金,半导体,陶瓷,介电,光学,氧化物和PTFE薄膜等。而且设 备体积较小操作方便,是一套 理想的实验工具。

 

技术参数

产品型号

DHMS-Ⅱ

DHMS-III

真 空 室

玻璃钟罩+304不锈钢真空室底座

圆筒型,上升盖溅射腔体

尺    寸

Φ300×360mm

Φ300×300mm

真空系统

机械泵、分子泵、闸板阀


极限真空

8×10-5Pa

6.67×10-5Pa

恢复真空

达到5×10-4Pa≤45min


前 级 泵

抽气速率 6L/S

主 抽 泵

FF160/620

溅 射 靶

1只2英寸磁控溅射靶

2只2英寸磁控溅射靶

溅射电源

500W  DC  一台

DC  RF电源 各一台

靶挡板

电动控制挡板

工艺气体

质量流量控制器2路 (可拓展)

样品尺寸

Φ30-150mm可选

运动方式

基片可连续回转,转速5~30转/分

基片加热

基片加热最高温度500°C ±1°C

真空测量

数显复合真空计

整机功率

约5KW

占地面积

主机:1300X800mm2 


本文网址:http://www./product/683.html

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