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DH2008系列 微波CVD薄膜制备装置

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DH2008系列 微波CVD薄膜制备装置

详细介绍

本装置 由公司和武汉工程大学联合研制,由微波源、真空系统、供气系统、微波传 输及微波谐振腔等部分组成。适合大学近现代物理、材料、化学等领域进行微波CVD原理与方法的教学、研究,金刚石 与类金刚石薄膜制备实验及科学研究,以及用 于生长碳纳米管、氮化硅、碳化硅等超硬膜,具有生长速度快、操作简便、性价比高等优点。同时可 完成等离子体刻蚀加工实验、微波等 离子体表面改性等实验。

技术参数

产品型号

DH2008

DH2008A

DH2008F

沉 积 室

Φ50×H300 mm 石英玻璃

微波功率

0~1000W 连续可调输出

传输模式

TE10 模式模式传输

真空系统

机械泵

机械泵

机械泵+分子泵+闸板阀

极限真空

5×10-1Pa

5×10-1Pa

5×10-4Pa

恢复真空

2Pa

2Pa

2×10-3Pa

前 级 泵

4L/S

4L/S

4L/S

主 抽 泵



FF-100/110

质量流量控制器

0-500sccm  0-50sccm

(0-500sccm;0-200sccm;0-50sccm 2路)

衬 底 台

Φ30,最大可镀膜尺寸Φ25

基片加热

微波自加热,基片加热最高温度1200℃

真空测量

数显电阻真空计

数显复合真空计

压强测量

数显压阻真空计

整机功率

电压220V    约3KW

占地面积

主机:1300X800mm2

用户自备

高纯氢气(99.99%)、高纯甲烷(99.99%)、硅片、超声波清洗机等

选配件

冷却循环水机


本文网址:http://www./product/682.html

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